存在上颌窦假性囊肿的上颌窦底提升及同期种植体植入

Prof. Yong-Dae Kwon
Seoul, South Korea

  

临床挑战

一位中年男性来到诊所要求种植修复。全景放射线片显示右上颌窦有朦胧阴影。实施锥形束CT扫描(CBCT)进一步评估,存在一射线不能透过的穹状区域。放射学光片显示上颌窦内假性囊肿。在第一磨牙区域,剩余骨高度足以避免使用侧壁开窗方法。但是第一磨牙区残留牙槽嵴的形态和窦假性囊肿的存在对于经牙槽嵴顶上颌窦底提升并不是有利的指
标。

  

临床结果概述

目标

  • 使用Geistlich Bio-Oss Pen®和Geistlich Bio-Gide®进行侧壁开窗上颌窦底提升。
  • 在16和17位点植入种植体的同时进行骨增量。
  • 从窦腔内负压吸出小囊性病变。

结论 

  • 不分阶段上颌窦底提升治疗。
  • 使用Geistlich Bio-Oss Pen®和Geistlich Bio-Gide®可获得非常可靠的临床结果。
  • Geistlich Bio-Gide®非常适合上颌窦膜穿孔的修复。

目的 / 方法

为了确认射线不透性是无症状的窦假性囊肿,计划通过侧壁开窗进行上颌窦底提升。打开一个骨窗后,可以抽出带有淡黄色囊液的小囊性病变。手术过程中发现了上颌窦膜穿孔,用Geistlich Bio-Gide®成功修补。

结论

因为操作简单且对上颌窦膜有良好的贴附性,Geistlich Bio-Gide®是修复穿孔十分理想的产品。应该对其进行适当的修剪和放置,以确保其铺开足以完全覆盖穿孔。