上颌后牙区牙槽嵴保存术
临床挑战
拔牙后出现的牙槽骨吸收和上颌窦气化导致可用于植入种植体的垂直向骨高度降低，而增加了上颌窦底提升术的必要性。经牙槽嵴顶或侧壁开窗等方法的上颌窦底提升技术，尽管具有良好的可预期性，但可能会增加并发症的风险（例如窦膜穿孔），并增加治疗费用和时间。1,2另一种可供选择的治疗方法是在上颌后牙区植入短种植体（长度<6mm），但目前尚缺乏临床长期成功的证据。3,4
16牙根折，根管治疗失败，根尖贴近窦底。嵴顶距上颌窦底水平面高度：颊侧6.2mm，嵴顶处8mm，腭侧8.1mm。
切开桥体并移除修复体（15），16近中和14远中呈现2-3毫米临床附着水平（CAL）丧失。
在没有翻开全厚黏骨膜瓣的条件下拔除16，颊侧骨壁完整。拔牙窝清创。拔牙窝尺寸：近中-远端9.5 mm，颊舌侧10.5 mm。
Geistlich Bio-Oss®（0.25-1.0 mm）填入拔牙窝并略过量填充，使其高于牙槽嵴顶上方0.5mm。
用Geistlich Bio-Gide®膜覆盖增量区。
使用内部十字交叉缝合技术（Hidden X）固定胶原膜和创口，创口无需初期关闭。
16区愈合的拔牙窝和缝合线拆除。注意到膜暴露区域的肉芽组织生成。
4个月后16区愈合的拔牙窝可见创口愈合良好。
CT扫描片中8mm种植体植入位置。CT片中可见骨填充材料。测量垂直向骨高度（颊侧皮质骨高度6.3mm，腭侧7.1mm）。
翻起全厚黏骨膜瓣，Geistlich Bio-Oss® 颗粒已与新生骨一起长入愈合的牙槽嵴中，可见水平向和垂直的细微变化。
临床结果概述
目标
- 在上颌后牙列中保留牙槽嵴。
- 减少对窦底提升手术的需求。
结论
- 使用Geistlich Bio-Oss®和Geistlich Bio-Gide®进行牙槽嵴保存可减少植入种植体前进行窦底提升术的需要。
目的/方法
进行上颌后牙区牙槽嵴保存以减少对上颌窦底提升手术的需求。在拔牙之前进行CT扫描以评估垂直向骨高度基线。拔牙后，彻底清创拔牙窝以除去所有炎性或感染组织，然后检查颊侧骨壁是否完整。将去蛋白牛骨矿物质（Geistlich Bio-Oss®，0.25-1.0mm）逐层压实填入拔牙窝中，高度高于牙槽嵴顶上方0.5mm。然后修剪猪胶原膜（Geistlich Bio-Gide®）并覆盖拔牙窝以防止填充材料的流失并保证伤口的
稳定愈合。此外，使用内十字交叉缝合5以实现膜和移植物的稳定，无需严密缝合。医嘱术后使用抗生素和抗菌口腔冲洗液。两周后拆除缝线。4个月的愈合期后，拍摄临床照和拔牙后CT扫描以评估垂直向牙槽嵴高度和窦底骨高度变化。
结论
拔除上颌后牙行牙槽嵴保存，可以最小化拔牙后的骨改建和上颌窦气化，从而减少植入种植体前进行窦底提升术的必要。
参考文献：
- Pjetursson et al. 2008. Journal of clinical periodontology (35), 216-240. (clinical study)
- Tan et al. 2008. J Clin Periodontol. Sep;35(8):241-54. (clinical study)
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- Thoma et al. 2015. J Clin Periodontol. 2015 Jan;42(1):72-80. (clinical study)
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